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IRCF
이미지센서용 필터, 적외선 차단필터 등의 제조 공정은 크게 증착, 인쇄, 가공, 검사의 공정으로 이루어 지며, 고굴절률을 갖는 물질과 저굴절률 물질을 교대로 증착하여 제품을 제조하고 있으며, 박막내부의 잔류 응력과 크랙을 줄여 광학소자의 신뢰성 및 수율을 보장하고 있습니다.
특히 이미지 센서용 필터의 경우, 제조 단계에서 이물질 유입을 엄격하게 관리하고 있으며, 자동화된 고속검사 장비를 통해 엄격한 이물관리(10μm 이하) 체계를 갖추고 있습니다.
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Film Filter
세계 최초로 블랙마스킹 필름필터 양산에 성공 및 세계 최대 양산능력을 보유 하고 있으며, 스마트폰의 멀티플 카메라 대중화로 인해 그 수요가 지속적으로 증가하고 있습니다.
▶ 적용부문
▶ 특장점
인쇄특화
이물관리
양산능력
01
Black Masking Decenter 관리
- 30㎛
02
자동검사기(AVI)를 통한 이물관리
- AR 8㎛ / IR 10㎛
03
세계 최대양산 능력 보유
- 4,000만개/월
▶ 제품특성
Structure
AR Coating
Film
IR Coating
항 목
Spec
0.11mm
Cut-On ≤ 3nm
Cut-Off ≤ 5nm
OD Max = 3.8
Very Good
Flare
Strength
Thickness
Color Shift
Characteristics
T50% ≤ 3nm
T10% ≤ 5nm
Tavg ≥ 88% @ 481~560nm
Visible Pass Area(%)
Cut-On Shift
Cut-Off Shift
Tmax ≤ 0.2% @ 851~1050nm
NIR Stop Area(%)
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Blue Filter
옵트론텍은 블루필터의 세계 최대 양산능력을 보유 하고 있으며, 스마트폰의 멀티플 카메라 대중화로 인해 수요가 지속적으로 증가하고 있습니다.
▶ 적용부문
▶ 특장점
인쇄특화
이물관리
양산능력
01
Black Masking Decenter 관리
- 30㎛
02
자동검사기(AVI)를 통한 이물관리
- AR 8㎛ / IR 10㎛
03
세계 최대양산 능력 보유
- 4,000만개/월
▶ 제품특성
Structure
AR Coating
Blue Glass
IR Coating
항 목
Spec
0.1mm & 0.21mm & 0.300mm
Cut-On ≤ 10nm
Cut-Off ≤ 25nm
OD Max = 3.8
Good
Flare
Strength
Thickness
Color Shift
Characteristics
T50% < 10nm
T10% < 25nm
Tavg > 90% @ 430~560nm
Tmax<0.01% @ 800~1,100nm (OD>4)
Pass Area (%)
Stop Area (%)
Cut-On Shift
Cut-Off Shift
.
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Organic White Filter
강화 Glass와 유기물층을 활용한 OWF는 스마트폰의 멀티플 카메라 대중화로 인해 수요가 지속적으로 증가하고 있습니다.
▶ 적용부문
▶ 특장점
인쇄특화
이물관리
양산능력
01
Black Masking Decenter 관리
- 30㎛
02
자동검사기(AVI)를 통한 이물관리
- AR 8㎛ / IR 10㎛
03
세계 최대양산 능력 보유
- 4,000만개/월
▶ 제품특성
Structure
항 목
Spec
AR Coating
Organic Layer
IR Coating
Glass
0.1mm & 0.21mm
Cut-On ≤ 10nm
Cut-Off ≤ 5nm
OD Max = 3.5
Good
Flare
Strength
Thickness
Color Shift
Characteristics
T50% < 10nm
T10% < 10nm
Tavg ≥ 88% @ 476~560nm
Pass Area (%)
Cut-On Shift
Cut-Off Shift
Stop Area (%)
Tmax ≤ 0.1% @ 851~950nm (OD>3)
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